纳米氮化硅

    
≥99.5% metals basis, 20nm

Silicon nitride

源叶
V31254 一键复制产品信息
12033-89-5
N4Si3
140.28
MFCD00011230
纳米四氮化三硅
货号 规格 价格 上海 北京 武汉 南京 购买数量
V31254-25g ≥99.5% metals basis, 20nm ¥308.00 10 - - -
V31254-100g ≥99.5% metals basis, 20nm ¥988.00 6 - - -
V31254-500g ≥99.5% metals basis, 20nm ¥3862.00 1 - - -
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产品介绍

溶于氢氟酸。不溶于水。为共价键化合物,结合非常稳定。在空气中被加热至1450~1550℃时仍稳定。强度高。硬度大。硅粉在氮气氛中于高温下制得。也可由卤化硅与氨气经二氧化碳气激光束照射,生成无定形氮化硅,再在1450℃电炉、氮气氛中加热制得高纯度氮化硅粉末。

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摩尔浓度计算器

质量 (mg) = 浓度 (mM) x 体积 (mL) x 分子摩尔量 (g/mol)

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